產(chǎn)品詳情
膜厚儀FR-Mic是一款快 速、準確測量薄膜表征應用的模塊化解決方案，要求的光斑尺寸小到幾個微米，如微圖案表面，粗糙表面及許多其他表面。它可以配備一臺專用計算機控 制的XY工作臺，使其快 速、方便和準確地描繪樣品的厚度和光學特性圖。品牌屬于Thetametrisis。
Thetametrisis膜厚儀利用 FR-Mic，通過紫外/ 可見/ 近紅外可輕易對局部區(qū)域薄膜厚度，厚度映射，光學常數(shù)，反射率，折射率及消光系數(shù)進行測量。
【相關(guān)應用】高校 & 研究所實驗室半導體制造(氧化物/氮化物， 硅膜, 光刻膠及其他半導體薄膜.)MEMS 器件 (光刻膠, 硅膜等.)LEDs, VCSELs數(shù)據(jù)存儲陽極處理曲面基底的硬鍍及軟鍍聚合物膜層, 粘合劑.生 物醫(yī)學(聚對二甲苯, 生 物膜/氣泡壁厚度.)還有許多…
【特點】膜厚儀實時光譜測量薄膜厚度，光學特性，非均勻性測量， 厚度映射使用集成的，USB連接高品質(zhì)彩色攝像機進行成像
【產(chǎn)品優(yōu)勢】膜厚儀單擊即可分析 (無需初始預測)動態(tài)測量包含光學參數(shù) (n & k, color)可保存測量演示視頻錄像超過 600 種不同材料o 多個離線分析配套裝置o 免費操作軟件升級
【技術(shù)參數(shù)】
*測量面積(收集反射或透射信號的面積)與顯微鏡物鏡和 FR-uProbe 的孔徑大小有關(guān)。
【工作原理】
*規(guī)格如有更改，恕不另行通知, 測量結(jié)果與校準的光譜橢偏儀和 XRD 相比較, 連續(xù) 15 天測量的標準方差平均值。樣品：1um SiO2 on Si., 100 次厚度測量的標準方差，樣品：1um SiO2 on Si.
*超過 15 天的標準偏差日平均值樣品：1um SiO2 on Si。
以上資料來自Thetametrisis，如果有需要更加詳細的信息，請聯(lián)系我們獲取。
