主營產(chǎn)品：箱式爐,管式爐,真空爐,pecvd系統(tǒng),高溫爐,氣氛爐
18037178440（電商）
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| 數(shù)量(臺) | 面議 |
| 1 |
￥8800.00
￥8800.00
￥6800.00
￥8900.00
| 詳細參數(shù) | |||
|---|---|---|---|
| 品牌 | 規(guī)格型號 | 完善 | |
| 編號 | 齊全 | 計量單位 | 1臺 |
| 付款方式 | 面議 | 參考價格 | |
| 價格單位 | 人民幣 | 供貨量 | 不限 |
| 說明書，報價手冊及驅(qū)動 | 暫無相關(guān)下載 | 其他資料下載 | 暫無相關(guān)下載 |
| 產(chǎn)地 | 本地 | 發(fā)貨地 | 本地至全國 |
產(chǎn)品概述：
諾泰高真空PECVD系統(tǒng)是由管式爐，真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、射頻電源系統(tǒng)等組成。系統(tǒng)主要應(yīng)用于金屬薄膜，陶瓷薄膜等，復合薄膜，石墨烯等生長。PECVD系統(tǒng)增加功能容易，可擴展等離子清洗刻蝕等功能，PECVD系統(tǒng)薄膜沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高等優(yōu)點。
高真空PECVD系統(tǒng)主要特點：
1.通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。
2.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積所需的溫度更低。
3.可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小。
4.PECVD比普通CVD進行化學氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。
5.廣泛應(yīng)用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。
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