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0.09μm工藝縮小快閃存儲(chǔ)器尺寸
0.09μm工藝縮小快閃存儲(chǔ)器尺寸
 更新時(shí)間:2008-8-17 20:07:48  點(diǎn)擊數(shù):5
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美國(guó)加州圣尼維爾(Sunnyvale)的SanDisk公司和該州伊爾文(Irvine)的東芝美國(guó)電子元件公司合作開(kāi)發(fā)了0.09μm工藝,從而使二元和多級(jí)元(Multi-level cell,MLC)NAND快閃存儲(chǔ)器容量和競(jìng)爭(zhēng)力提高。新的工藝將使目前0.13μm工藝產(chǎn)品的存儲(chǔ)容量提高一倍,并且使產(chǎn)品體積縮小,生產(chǎn)成本降低。

  兩公司在發(fā)展計(jì)劃中提出未來(lái)存儲(chǔ)產(chǎn)品的容量將進(jìn)一步提升,包括 2Gb和4Gb MLC NAND快閃存儲(chǔ)器。在單片存儲(chǔ)卡上集成多個(gè)閃存芯片,將使手持設(shè)備能夠存儲(chǔ)數(shù)十分鐘長(zhǎng)度的DVD視頻,成千上萬(wàn)的高分辨率圖像,超過(guò)30小時(shí)的數(shù)字音樂(lè),或者數(shù)千兆的數(shù)據(jù)文件。

  0.09μm NAND存儲(chǔ)芯片將在日本的東芝公司的Yokkaichi工廠為兩公司生產(chǎn),Yokkaichi在合資企業(yè)FlashVision名下。預(yù)期在2003年下半年會(huì)有樣品推出,成批生產(chǎn)預(yù)定于2004第一季。更新一代的工藝研究也已經(jīng)開(kāi)始,包括0.07μm和0.055μm工藝。

  更多信息請(qǐng)聯(lián)系Sandisk公司Mike Wong,電子郵件:mwong@sandisk.com;或訪問(wèn)http://www.toshiba.co.jp/index.htm。

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