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永宏P(guān)LC系列在低溫等離子體處理儀應(yīng)用

一、設(shè)備簡介

1、特點:

■ 一鍵式操作,使用方便;
■ 腔體容積大,處理樣品數(shù)量多;
■ 離子濃度高,效率高;
■ 結(jié)構(gòu)緊湊,經(jīng)濟使用;
■ 放電均勻,裝卸料方便;
■ 微機自動控制,操作方便;
■ 高性能參數(shù)控制元件,參數(shù)控制精度高,重復(fù)性好。                                            

2、應(yīng)用:

■ 表面清洗:如粘結(jié)前、錫焊前或電鍍前的表面處理;
■ 表面活化:如生物材料的表面修飾,印刷前、上漆前或粘結(jié)前的表面處理;
■ 表面刻蝕:如硅的微細加工、聚四氟乙烯件表面刻蝕處理;
■ 表面接枝:如材料表面特定基團的產(chǎn)生和表面活化的固定,避免時效性;
■ 表面沉積:如疏水性或親水性層等的離子體聚合沉積。

 

二、系統(tǒng)架構(gòu)

主要產(chǎn)品功能規(guī)格

(1)控制器:永宏FBs-20MA主機,12點DI,8點DO,繼電器輸出;FBS-B2A1D、FBS—4A2D;

(2)比例閥:PLC通過0-5V模擬量控制比例閥的開始量;

(3)真空計:儀表測出真空度同時輸出0—5V的非線性模擬量。

(4)人機界面:通過RS232以永宏協(xié)議與永宏P(guān)LC進行通信。

系統(tǒng)結(jié)構(gòu):

核心部分,永宏P(guān)LC作為控制器,承擔(dān)著信號采集、處理,輸出的任務(wù);

上位部分,人機介面通過port0與PLC通訊,可對設(shè)備進行操及工作參數(shù)的調(diào)整,同時監(jiān)控當前狀況;

下位部分,主要是通過PLC輸控制真空電機的啟動停止,同時通過模擬量輸出來控制比例閥的開始量,通過模擬量輸入來采集真空度、進氣流量。

I/O配置

三、工作流程

   1、一遍處理程序:

  在觸摸屏上設(shè)定:處理功率、進氣流量(兩路)、處理時間三個參數(shù)。

2、兩遍處理程序:

在觸摸屏上分別設(shè)定:

第一遍的處理參數(shù):處理功率、進氣流量(兩路)、處理時間。

第一遍的處理參數(shù):處理功率、進氣流量(兩路)、處理時間。

注:清洗參數(shù)與進氣參數(shù)不一樣。

3、接枝管路清洗

在觸摸屏上選擇:“接枝管路清洗功能”,顯示清洗進行的時間

四、結(jié)束語  

      永宏P(guān)LC以它的高精度、高穩(wěn)定性及超高的性價比,使其在實驗設(shè)備中得到廣泛的應(yīng)用;此低溫等離子體處理儀使用永宏P(guān)LC作為控制核心,使其穩(wěn)定性及控制放電功率方面的精度有大大的提高。

 

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