光刻膠材料作為集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，是一種有機(jī)化合物，經(jīng)過(guò)紫外光、電子束等照射，光刻膠得到曝光，化學(xué)性質(zhì)發(fā)生改變，經(jīng)過(guò)顯影液的洗滌，圖案會(huì)留在襯底上。硅片制造中所用的光刻膠以液態(tài)涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。

　　因?yàn)樵摦a(chǎn)品屬于集成電路制造領(lǐng)域的重要關(guān)鍵材料，由于技術(shù)壁壘和客戶壁壘高，全球光刻膠市場(chǎng)集中度高，市場(chǎng)被美日公司長(zhǎng)期壟斷。日本的JSR、東京應(yīng)化、信越化學(xué)及富士電子四家企業(yè)占據(jù)了全球70%以上的市場(chǎng)份額，處于市場(chǎng)壟斷地位。

　　按不同制程，光刻膠可分為EUV光刻膠、ArF光刻膠、KrF光刻膠及G線、i線光刻膠，前三者均為高端光刻膠產(chǎn)品，產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)數(shù)據(jù)顯示，截至2019年國(guó)內(nèi)在g線/i線光刻膠僅達(dá)到20%自給率，而KrF光刻膠自給率不足5%，ArF光刻膠則完全依賴進(jìn)口。

　　但日前，機(jī)電之家網(wǎng)獲悉，江蘇南大光電材料股份有限公司發(fā)布公告稱，公司控股子公司寧波南大光電材料有限公司自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品近日成功通過(guò)客戶的使用認(rèn)證。這標(biāo)志著“ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”項(xiàng)目取得了關(guān)鍵性的突破，成為國(guó)內(nèi)通過(guò)產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國(guó)產(chǎn)ArF光刻膠。據(jù)了解“ArF光刻膠產(chǎn)品開發(fā)和產(chǎn)業(yè)化”是寧波南大光電承接國(guó)家“02專項(xiàng)”的一個(gè)重點(diǎn)攻關(guān)項(xiàng)目。

　　江蘇南大光電材料股份有限公司表示本次通過(guò)客戶認(rèn)證的產(chǎn)業(yè)化意義大。本次驗(yàn)證使用的50nm閃存技術(shù)平臺(tái)，在特征尺寸上，線制程工藝可以滿足45nm-90nm光刻需求，孔制程工藝可滿足65nm-90nm光刻需求，該工藝平臺(tái)的光刻膠在業(yè)界有代表性。但同時(shí)ArF光刻膠的復(fù)雜性決定了其在穩(wěn)定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風(fēng)險(xiǎn)，不僅需要技術(shù)攻關(guān)，還需要在應(yīng)用中進(jìn)行工藝的改進(jìn)、完善，這些都會(huì)決定ArF光刻膠的量產(chǎn)規(guī)模和經(jīng)濟(jì)效益。公司將及時(shí)根據(jù)后續(xù)進(jìn)展履行信息披露義務(wù)，敬請(qǐng)廣大投資者注意投資風(fēng)險(xiǎn)。